一文讀懂高光譜測(cè)試系統(tǒng)的測(cè)試原理及方法

更新時(shí)間：2022-05-25 點(diǎn)擊次數(shù)：1038

　　高光譜測(cè)試系統(tǒng)是高光譜相機(jī)、顯微鏡、計(jì)算機(jī)等結(jié)合的新型應(yīng)用方式，借助顯微鏡結(jié)構(gòu)在不同放大倍率下把待測(cè)試樣品的微觀尺度進(jìn)一步的提升的特點(diǎn)，能夠充分觀察物質(zhì)在其微觀尺度上的圖像信息，從而進(jìn)一步獲取物質(zhì)的光譜信息，這樣充分利用高光譜在光譜和圖像方面的優(yōu)勢(shì)，結(jié)合顯微機(jī)構(gòu)系統(tǒng)，把高光譜技術(shù)的應(yīng)用又進(jìn)一步進(jìn)行了拓展。

　　高光譜測(cè)試系統(tǒng)的測(cè)試原理及方法：

　　高光譜成像技術(shù)是近二十年來(lái)發(fā)展起來(lái)的基于非常多窄波段的影像數(shù)據(jù)技術(shù)，其突出的應(yīng)用是遙感探測(cè)領(lǐng)域，并在越來(lái)越多的民用領(lǐng)域有著更大的應(yīng)用前景。它集中了光學(xué)、光電子學(xué)、電子學(xué)、信息處理、計(jì)算機(jī)科學(xué)等領(lǐng)域的先進(jìn)技術(shù)，是傳統(tǒng)的二維成像技術(shù)和光譜技術(shù)有機(jī)的結(jié)合在一起的一門(mén)新興技術(shù)。

　　高光譜成像技術(shù)的定義是在多光譜成像的基礎(chǔ)上，在從紫外到近紅外(200-2500nm)的光譜范圍內(nèi)，利用成像光譜儀，在光譜覆蓋范圍內(nèi)的數(shù)十或數(shù)百條光譜波段對(duì)目標(biāo)物體連續(xù)成像。在獲得物體空間特征成像的同時(shí)，也獲得了被測(cè)物體的光譜信息。

　　光譜儀的光譜分辨率由狹縫的寬度和光學(xué)光譜儀產(chǎn)生的線性色散確定。最小光譜分辨率是由光學(xué)系統(tǒng)的成像性能確定的(點(diǎn)擴(kuò)展大小)。

　　成像過(guò)程為：每次成一條線上的像后(X方向)，在檢測(cè)系統(tǒng)輸送帶前進(jìn)的過(guò)程中，排列的探測(cè)器掃出一條帶狀軌跡從而完成縱向掃描(Y方向)。綜合橫縱掃描信息就可以得到樣品的三維高光譜圖像數(shù)據(jù)。

　　利用顯微高光譜系統(tǒng)在10X倍的物鏡下能夠觀察到LED光源上的微觀構(gòu)造，并且能夠準(zhǔn)確的測(cè)試到不同led光源對(duì)應(yīng)的特征波長(zhǎng)，而且圖像也非常的清晰(實(shí)際測(cè)試時(shí)樣品并非*平整)，通過(guò)焦距調(diào)試，能夠凸顯出光源自身的一些特征信息。

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